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ZSpheres(ジースフィア)
新しい可変ルーチン 改良された選択方法
ZSphereの配置に細かい気を使う必要はありません。
ZSphereは簡単に綺麗なメッシュを生成できるように最適化されました。		 ZSphere選択時のライン表示が、親子関係を選択した編集と特定のZSphereを選択した編集の選択を簡単にします。
ポージング ZSphereの向き
ZSphereによって生成されるメッシュの構造をモーフターゲットに格納する事によって「凍結」させる事ができます。これによってペイントおよび彫刻の後に自由にZSphereの位置を変更する事ができるようになりました。ZSphereの再配置でメッシュを再計算しても、彫刻やテクスチャーの状態を保持しています。 ZBrush 2.0のZSphereは「正面」および「背面」を簡単に見分ける事ができるように半球状に色が付けられています。ZSphereの回転によるメッシュのねじれなどを調整したり、逆にねじれを生み出す事ができます。
メッシュを挿入 高密度
ZSphereの代わりにツールパレットの3Dオブジェクトを挿入する事ができます。（ZBrushプリミティブでもpolymeshでもOK）挿入されたオブジェクトはZSphere間を接続するように配置され、伸縮しねじれます。

複雑なメッシュが簡単に作成できるようになります。（MultiMarkersツールの代わりに使う事ができます）		 ZBrush 2.0では、アダプティブ・スキンの解像度が最大８になりました。（version 1.55bでは最大４まででした）
これはアダプディブスキンがものすごいディテールを持つことを意味します。

マルチ解像度編集（サブディビジョン）と組み合わせて、超詳細なディテールを保ちながらも、メッシュが破壊される事なくZSphereで再ポージングする事が可能になるのです！
マルチ解像度編集
ZSphere のプレビューメッシュは、polymeshと同様にマルチ解像度編集（サブディビジョン）を加えて彫刻を行なう事ができます。このものすごく強力で多機能なマルチ解像度編集に関しての詳細はこちらのセクションを参照してください。
ZBrush 3.1 情報
ZBrush 2 情報（旧バージョン）

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